詳細情報
著作分類
IIRケーススタディ
著者
久保田達也：青島矢一：高永才
論文タイトル
富士通株式会社： 最先端LSIを実現したArFエキシマレーザーリソグラフィ用新規レジスト材料の開発と実用化
機関名
一橋大学イノベーション研究センター
ナンバー
CASE#13-02
出版・発行年月
2013/05/01
要旨
備考
参考URL
ラベル
経営学, 技術経営, 大河内賞
登録日
2013/05/01
