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要旨
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日本の起業環境は、資金面でも人材供給面でも恵まれているとはいえない。しかもハイテク関連の起業となると、研究開発に多大な資金と有能な技術者を必要とする。そのような厳しい環境のなかで成長を遂げた、半導体ウェーハ検査装置メーカーのレイテックスの歩みをたどりながら、ハイテク・スタートアップの成長プロセスを検証していく。ベンチャー・キャピタルの投資や大手企業の資本参加を受けずに2004年に東証マザーズで株式公開を果たした背景には、内部留保による資金調達、外部の人材を活用した製品開発、迅速な事業化、競合の追随を許さない製品のフルライン化があった。また、成長のドライバーとなった事業機会の発見に長い時間を要したことは、米国におけるハイテク・スタートアップの成長プロセスとは異なるモデルを提示しているといえよう。
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