|
要旨
|
半導体素子を製造する技術として、リソグラフィは半導体素子の進歩を支えてきた。半導体素子の進歩に伴い、リソグラフィへの要求は高度なもの となり、その時々において最善と思われる技術が選択されている。しかし不思議なことに、ごく初期を除き、その時々で選択されるリソグラフィ技 術は世界中で同じであり、量産を対象として選択されたリソグラフィは全て光リソグラフィであった。新旧技術の入れ替えがどのように行われ、そ の切り替えのタイミングをどのように判断し、そして必ず競合が存在する新技術の中から、次の技術が選択される過程を示し、光リソグラフィにお ける波長の選択を議論する。
|
