The New Outsourcing: The World's Aircraft Industry Toward Symbiosis and Co-creation
Nishiguchi, Toshihiro:Sigrun Caspary（編）
Society of Japanese Aerospace Companies (SJAC) (in Japanese)（1996）
編著
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検索結果： 2445件 112ページ目（2221〜2240）
Coevolutionary, Interorganizational Management
Nishiguchi, Toshihiro, Diamond Harvard Business（編）『The Strategic Outsourcing Enables to Supply Resources』 pp. 123-201
Diamondosha (in Japanese)（1996）
本の一章執筆
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Strategy, Structure and Performance in Product Development: Observations from the Auto Industry
Cusumano, Michael:Kentaro Nobeoka, Toshihiro Nishiguchi（編）『Managing Product Development』 pp. 75-120
Oxford University Press（1996）
本の一章執筆
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Managing Product Development
Nishiguchi, Toshihiro（編）
Oxford University Press (Shingo Prize Excellence in Manufacturing Research 1997)（1996）
編著
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Managing Product Development
Nishiguchi, Toshihiro（編）
Oxford University Press （米国シンゴウ製造業研究優秀賞 1997; Winner of the Shingo Prize for Excellence in Manufacturing Research）（1996）
編著
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シリコンの科学
早見由香:藤村修三, 大見忠弘、新田雄久（編）『Surface Science Technology Series 3』 pp.349-357
UCS半導体基板技術研究会編 、リアライズ社（1996）
本の一章執筆
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Observation of Oxygen Exposed Hydrogen Terminated Silicon Surface
Ogawa, H.:K. Ishikawa:M. Aoki:S. Fujimura:N. Ueno:Y. Horiike:Y. Harada
『The Electrochemical Society』 p. 428 （1996）
論文
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論文
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Hydrogen molecules in crystalline silicon treated with atomic hydrogen
Murakami,K.:N. Fukata:S. Sasaki:K. Ishioka:M. Kitajima:S. Fujimura:J. Kikuchi:H. Haneda
『Physics reports : a review section of physics letters』 vol.77 3161 （1996）
論文
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Infrared spectroscopy study of chemical oxides formed by a sequence of RCA standard cleaning treatments
Inomata,C. R.:H. Ogawa:K. Ishikawa:S. Fujimura
『Journal of Electrochemical Society』 vol.143 2995 （1996）
論文
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Characterization of cleaning technology for silicon surfaces by hot water containing little dissolved oxygen
Hayami,Y.:M. T. Suzuki:Y. Okui:H. Ogawa:S. Fujimura
『Japan Journal of Applied Physics』 vol.35 4577 （1996）
論文
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Formation of hydrogen molecules in n-type silicon
Fukata,N.:S. Sasaki:K. Murakami:K. Ishioka:M. Kitajima:S. Fujimura:J. Kikuchi
『Japan Journal of Applied Physics』 vol.35 L1039 （1996）
論文
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Hydrogen passivation of donors and hydrogen states in heavily doped n-type silicon
Fukata,N.:S. Sasaki:S. Fujimura:H. Haneda:K. Murakami
『Japan Journal of Applied Physics』 vol.35 3937 （1996）
論文
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Cleaning of silicon surface by NF3-added hydrogen and water-vapor plasma downstream treatment
Kikuchi J.:M. Nagasaka:S. Fujimura:H. Yano:Y. Horiike
『Japan Journal of Applied Physics』 vol.35 1022 （1996）
論文
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Initial stage of native oxide growth on hydrogen terminated Si(111) surface
Ogawa H.:K. Ishikawa:C. Inomata:S. Fujimura
『Journal of Applied Physics』 vol.79 472 （1996）
論文
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Issues on the International Comparison of Productivity; Theory and Measurement
Motohashi, Kazuyuki:M. Kuroda:K. Shimpo, OECD（編）『Industry Productivity: International Comparison and Measurement Issues』 (Proceeding), pp. 49-95
OECD（1996）
本の一章執筆
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Knowledge Transfer across Generations: The Impact on Product Development Performance in the Automobile Industry
Aoshima, Yaichi
（1996）
論文
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著書
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本の一章執筆
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Suppliers' Process Innovation: Understated Aspects of Japanese Industrial Sourcing
Nishiguchi, Toshihiro:Masayoshi Ikeda, Nishiguchi, Toshihiro（編）『Managing Product Development』 pp. 206-230
Oxford University Press（1996）
本の一章執筆
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